【專利】面詢新制正式上路,同步修正專利案面詢作業要點 - 2017年07月03日 - 遠碩專利師事務所
專利新聞
遠碩網站專利商標免費諮詢
專利申請免費諮詢 商標申請免費諮詢
著作權服務免費諮詢 智財法律契約服務免費諮詢

專利新聞

【專利】面詢新制正式上路,同步修正專利案面詢作業要點 - 2017年07月03日

  本(106)年度7月1日起,面詢新制正式上路,同時修正專利案面詢作業要點,該要點將規範當事人申請面詢應提出面詢申請書,以避免過去因當事人意思表示不清楚造成是否辦理面詢之爭議。此外,面詢申請書也要填寫面詢事項及說明,具體陳述面詢時所欲溝通之主題,便於雙方進行面詢時之溝通。
  為使申請人瞭解並適應面詢新制之運作,本局於今年4~6月已進行面詢改善方案之試行,該方案除採用新式面詢申請表、面詢通知書與面詢紀錄表外,專利各組副組長亦實際參與新面詢程序進行指導,協助當事人與審查人員間之雙向溝通,提升面詢品質及效率。
  試行期間各界就參與面詢曾發生的問題,諸如申請或辦理面詢之時機、文件代收人是否具有出席人員資格、面詢程序以及紀錄方式等方面給予指教與建議。本局亦就相關問題進行研議與討論,回應意見彙整如附件。另依本方案之滿意度調查結果顯示,各界對於面詢新制給予高度肯定及支持。
  面詢新制除了藉由「面詢事項與說明」以提升面詢效益外,未來本局亦將著手進行面詢空間與硬體設備之規劃與建置,希望透過新制措施及硬體之整合,建立更加友善及有效率之面詢溝通環境。(經濟部智慧財產局)
面詢QA彙整表


專利申請免費諮詢 商標申請免費諮詢 著作權服務諮詢 智財法律契約諮詢
遠碩專利師事務所  
Lewis & Davis Patent Attorneys Office 10478 台北市復興北路290號12樓
TEL:+886-2-2517-5955 FAX:+886-2-2517-8517 E-mail:Email住址會使用灌水程式保護機制。你需要啟動Javascript才能觀看它